詳細(xì)摘要: 掩膜版制備工藝主要采用曝光腐蝕工藝(與光刻法在硅表面制備高精度的圖案類似),這種方法可以根據(jù)客戶要求靈活設(shè)計(jì)各種圖案,且制備出來(lái)的圖案尺寸標(biāo)準(zhǔn)
產(chǎn)品型號(hào):所在地:深圳市更新時(shí)間:2024-07-31 在線留言印前設(shè)備 印刷機(jī)械 印后設(shè)備 裝訂設(shè)備 廣告設(shè)備 辦公設(shè)備 印刷機(jī)械配件 其它印刷相關(guān)器材 其它印刷設(shè)備